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管式爐主要運用于冶金，玻璃，熱處理，鋰電正負極材料，新能源，磨具等行業，測定材料在一定氣溫條件下的專業設備。爐型結構簡單，操作容易，便于控制，能連續生產。管式爐使用的注意事項注意一電爐操作工應具備國家相應電氣設備操作資格，并熟讀隨機儀表說明書等技術文件!溫度系統操作:用戶開關板給電爐送電，此時程序表得電，按溫度儀表(如右圖)說明書設定儀表(如P、I、D參數)，按工藝要求編制加熱程序，打開加熱旋鈕,使加熱功率到達6KW。加熱功率可按下式計算:加熱功率=儀表電壓×儀表電流正常加熱...

就像把石頭扔進平靜的湖水會濺出水一樣，用高速離子轟擊固體表面會使近表面的原子（或分子）從固體表面逃逸。這種現象稱為濺射現象。濺射意味著具有足夠高能量的粒子轟擊固體表面以發射原子。早期的人們認為，這種現象源于目標的局部加熱。然而，人們發現濺射和蒸發有本質區別，人們逐漸認識到濺射是轟擊粒子與靶粒子之間動量傳遞的結果。小型磁控射頻濺射鍍膜儀磁控濺射利用磁場束縛電子的運動，提高電子的電離率。與傳統濺射相比，具有“低溫”和“高速”兩大特點。磁控射頻濺射鍍膜儀具有小型化、標準化的特點。磁...

高真空蒸發鍍膜儀采用前開門真空室設計，室高增加到500mm。樣品臺與蒸發源之間的距離有較大的調節范圍，可適應多種蒸發要求，避免樣品在蒸發源中高處損壞。高真空蒸發鍍膜儀配有四套鎢舟蒸發源和水冷銅電極。每個蒸發源支持100A的大電流和1800°C的加熱溫度，可實現多層涂裝或多種材料混合涂裝。型腔采用上樣品臺，樣品臺可旋轉、加熱、升降，所有操作均可通過觸摸屏集成控制。設備真空系統為兩級旋片泵和渦輪分子泵組成的兩級真空系統，可提供潔凈無油的高真空環境。該設備配有氣動閥門系統。通過操作...

多功能試樣表面處理機是一種用于掃描電子顯微鏡和電子探針樣品制備的設備。可在高純氬氣保護下進行多種離子處理。也可以對碳和金屬進行真空蒸鍍。該設備處理的樣品既可用于樣品的形貌觀察，也可用于成分分析。尤其是成分的定量分析更適合。該設備采用分子泵和機械泵組成的高真空單元系統。試樣以三種方式移動：平面旋轉、傾斜旋轉和傾斜進動。多功能試樣表面處理機功能可以賦予材料新的表面特性。這些特性隨時間逐漸衰減的特性稱為老化。一般認為，等離子體表面處理對材料的影響涉及到表面活化、交聯、表面蝕刻等多個...

熱噴涂鍍膜設備濺射鍍膜是將基體和靶材置于真空腔內，用電子或高能激光轟擊靶材，使表面成分以原子團或離子的形式濺射出來，沉積在表面基板，通過成膜工藝形成薄膜。粉末壓制燒結法和粉末熱等靜壓法常用于小尺寸平面靶材的生產。前者制作的靶材純度較低，而后者制作工藝復雜，特別是在合金靶材的生產中，成分不*均勻。靶材的大尺寸和高利用率是涂層領域的新趨勢，熱噴涂鍍膜設備等離子噴涂的諸多特點顯示出其在生產大尺寸、高利用率靶材方面的*優勢。1、等離子噴涂火焰溫度高，熱量集中，幾乎可以熔化所有高熔點粉...

高真空蒸發鍍膜儀是一種高真空蒸鍍機，特別適用于對氧敏感的金屬薄膜（如Ti、Al、Au等）的蒸鍍，也適用于各種氧化物材料的蒸鍍。本機配備四只蒸鍋，每只蒸鍋均配有擋板，如果改變部分配置，還可以實現有機材料的蒸鍍，可以滿足發光器件和有機太陽能電池的研究需求，是一種涂裝效果理想的實驗設備。原理：基于電阻蒸發原理，利用大電流對鉬舟或鎢藍或固定支架上的鍍膜材料進行加熱，使其在高真空下蒸發并沉積在鍍膜樣品上，以獲得最佳鍍膜效果。采用大抽速、高壓縮比、自然風冷卻復合分子泵，保證電鍍時蒸發源和...

雙溫區管式爐采用精密鋼板制作，表面靜電噴塑，外形美觀。工作室由剛玉管制成，加熱元件根據溫度需要匹配（硅碳棒或硅鉬棒），保溫材料為輕質保溫保溫加硅酸鋁耐火纖維棉，與電爐配套的溫控部分采用PID可調智能儀表控制可對多個程序段進行編程控制產品的燒成過程，并具有過流、限流、過熱等保護功能。雙溫區管式爐主要用于高校實驗室、工礦企業實驗室，用于高、中、低溫CVD工藝，如碳納米管的開發、晶體硅襯底涂層、金屬材料擴散焊和真空或氣氛中熱處理等設備必須按照操作規范使用，還應注意以下幾點：1、檢查...